引言1月5日，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室，LLNL，宣布正在研发一种基于铥元素的拍瓦，petawatt，级激光技术，该技术有望取代当前极紫外光刻，EUV，工具中使用的二氧化碳激光器，并将其光源效率提升约十倍，这一突破可能为新一代超越EUV的光刻系统铺平道路，从而以更快的速度和更低的能耗制造芯片，EUV光刻系统的能耗问题等离子体到EU...。

美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室，LLNL，正在研发一种基于铥元素的拍瓦级激光技术，旨在取代当前极紫外光刻，EUV，工具中使用的二氧化碳激光器，并将光源效率提升约十倍，EUV光刻系统的能耗问题当前的EUV光刻系统面临着严重的能耗问题，以低数值孔径，Low，NA，和高数值孔径，High，NA，EUV光刻系统为例，其功耗分别高达1，170千瓦...。

2023年1月5日消息，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室，LLNL，正在研发一种基于铥元素的拍瓦，petawatt，级激光技术，该技术有望取代当前极紫外光刻，EUV，工具中使用的二氧化碳激光器，并将光源效率提升约十倍，这一突破可能为新一代超越EUV的光刻系统铺平道路，从而以更快的速度和更低的能耗制造芯片，当前，EUV光刻系统的BAT系统采...。

引子1月5日，美国劳伦斯利弗莫尔国家实验室，LLNL，发布消息称，正在研发一种基于铥元素的拍瓦，petawatt，级激光技术，该技术有望取代当前极紫外光刻，EUV，工具中使用的二氧化碳激光器，将光源效率提升约十倍，EUV光刻系统面临的能耗困境EUV光刻技术是目前最先进的半导体微加工技术，但其高能耗问题一直备受关注，低数值孔径，Low，...。