引言
在特朗普尚未正式回宫之际,台积电主动刷了波存在感。11月12日,
环球时报援引路透社报道称,
美国商务部已致函台积电,要求其从本月11日起,停止向中国大陆客户供应7纳米及更先进制程工艺的芯片。
台积电暂未全面断供
虎嗅向国内某家已在台积电完成流片的芯片
设计公司求证,对方表示未接到来自台积电方面的通知,但的确有收到后者的邮件,要求重做投片资质的审查。因此,并不存在台积电直接向中国大陆客户断供的情况。
7纳米及更先进制程工艺的芯片表述不准确
虎嗅通过与多位从业者及投资人沟通后得知,路透社提到的7纳米及更先进制程工艺的芯片的表述也不完全准确。前台积电工程师、蓉和半
导体咨询CEO吴梓豪表示,就目前掌握的信息来看,新的审查
标准将围绕300平方毫米和7nm工艺节点两项
指标展开,最终还是会落在晶体管数量上。
国产AI芯片受影响较大
根据测算,在7纳米制程工艺下,每平方毫米约有1亿枚晶体管。以
DieSize(裸片尺寸)为300平方毫米为上限,最终晶体管数量将不超过300亿个。举个更直观的例子,2020年发布的英伟达A100芯片,其晶体管数量为542亿;某款与英伟达A100对标,且已经广泛运用在算力集群搭建的国产AI芯片,其晶体管数量约为500亿个。也就是说,即便不考虑后续芯片0年12月后,便无法从ASML获得先进的EUV光刻机,只能通过多重曝光的技术,用DUV光刻机去完成先进制程的
生产。
产能可能不足
一位国内某晶圆代工厂研发负责人表示,从技术路径来看,利用多重曝光做先进制程芯片的方式完全没有问题,因为台积电在获得EUV光刻机之前,就是通过此方式完成对7nm工艺制程的技术预研,已经得到了充分的技术验证。真正可能存在限制的是产能问题。
结语
台积电新规的出台,给我国半导体产业链国产化提速带来了一定阻力,但同时也刺激了国内产业链的自主创新。在中芯国际等企业的努力下,国产芯片产业有望突破技术难关,实现弯道超车。
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