点亮EUV光刻机曙光 哈工大官宣极紫外光源突破13.5nm (点亮光电科技有限公司)

太牛了！哈工大官宣搞定13.5nm极紫外光源，EUV光刻机迎来曙光 导言 在现代科技领域，芯片制造已成为竞争核心，而其中最重要的设备之一便是光刻机。光刻机是将微小电路图案刻到芯片表面的精密放大镜，支持着芯片制造。这一过程远非看上去那么简单，中国在光刻机技术上长期落后，背后藏着哪些难题？ 光刻机的关键作用：芯片制造的基础 光刻机是芯片制造的核心设备，负责将设计图纸上的电路图案转移到硅片表面。这一过程要求极高，随着芯片技术升级，光刻机的制造难度也在不断增加。芯片工艺愈先进，对光刻机的要求就愈高，其技术难度就愈大。光刻机的精度直接决定芯片的精度，这就需要仰仗高精度的技术和设备。 EUV光刻机：一个巨大的技术挑战 在所有光刻机技术中，EUV（极紫外光）光刻机被视为最难攻克的技术之一。EUV光刻机使用13.5纳米的极紫外光波长，可以将芯片上的电路图案刻得更小、更精细，这对制造先进工艺芯片至关重要。 EUV光刻机的制造极其复杂，技术要求极高，几乎每一个环节都需要精密的控制与创新。这也是中国在这一领域最大的技术短板。 EUV光刻机的技术难题 EUV光刻机的制造面临着多个技术难题。 光源的制造 EUV光刻机的核心光源发出的光波长极短，这意味着其能量极低，且容易被周围物质吸收。为了确保光源可以有效传输并准确照射到硅片表面，必须开发出高效的光源产生技术。 光学系统 EUV光刻机需要一套极其精密的光学系统。在这一系统中，反射镜的制造尤为重要。由于极紫外光的特性，反射镜必须非常光滑且无任何瑕疵，才能确保光线准确地照射到硅片上。 中国的科研攻关：逐步破解难题 尽管EUV光刻机技术长期以来是中国的一块技术短板，但这一局面正在发生改变。近年来，国内的高校和科研机构不断加大投入，逐步解决这一领域的技术瓶颈。 2024年年底，哈尔滨工业大学的科研团队在黑龙江省高校与科研院所职工科技创新成果转化大赛中取得了重大突破：赵永蓬教授的放电等离子体极紫外光刻光源项目获得一等奖。该技术能够提供13.5纳米波长的极紫外光，填补了国内光源的技术空白，为EUV光刻机的制造提供了重要支持。 这一突破标志着我国在EUV光源领域的技术进步，也让中国逐渐摆脱了对外技术依赖。 除了光源，还有哪些技术难关？ EUV光刻机的制造挑战远不止光源这一项。除了光源问题外，还有许多关键技术亟待突破。 光源的功率提升 由于极紫外光的能量太低，单次照射的强度不足以满足高精度芯片生产的要求。因此，如何提升光源功率，提高光刻的效率，成了另外一大技术难题。 光学系统：高精度反射镜的制造 EUV光刻机的光学系统需要极其精密的反射镜。这些反射镜的加工难度很大，任何微小的误差都会影响芯片的制造精度。为了确保高精度的光学对准，反射镜必须达到极高的精度，以避免出现任何误差。这就需要更多的技术攻关，尤其是在材料科学和精密加工方面。 结语 虽然这些技术难题依然困扰着中国，但值得欣慰的是，随着更多科研人员的不断努力和创新，我国在EUV光刻机的研究中已经取得了初步成就，未来有望在这一领域实现突破。 EUV光刻机的国产化之路任重而道远，但中国政府和科技界已经明确了目标，并投入了大量资源。相信在不久的将来，中国能够掌握EUV光刻机技术，打破国外垄断，为中国科技产业的发展创造新的机遇。